虽然没有明确提到光刻机，但知情人士称，蓬佩奥在与荷兰首相吕特会面中要求阻止这笔交易。后者在记者会上回应，虽然荷兰想要与盟国保持政策一致，但“每个国家都必须做出自己的安全决定”。
7月18日，吕特访问华盛顿，期间白宫副国家安全顾问查尔斯·库伯曼向他展示一份情报报告，内容是所谓“中国获得光刻机的可能后果”。
早在6月30日，ASML的许可证就已到期，通常需要8周时间进行审批及续签。但路透社称，吕特访问过后不久，荷兰政府决定不再续签这份许可证。ASML未出现在荷兰外交部数据库的续签名单上。
荷兰首相府发言人拒绝对此置评，称政府不会讨论单独的许可证案例。白宫以及库伯曼也没有回应置评。
荷兰首相马克·吕特
11月6日，《日本经济评论》最先报道了相关交易因许可证问题被推迟发货的消息，并认为ASML成为美国政府压力下的“牺牲品”。
公司发言人摩尔斯回应，“延迟发货”仅为媒体猜测，已经申请了新的许可证，仍在等待获批。
“公司遵守的法律。法律说你需要许可证才能出口EUV，我们已经申请了许可证。”
但不论有没有EUV光刻机，ASML预计2020年向中国出售其他产品，销售额会继续增长。路透社评论，此事显示白宫对于阻止中国获得先进芯片制造能力有多么重视，也证明美国政府试图单方面限制对中国出口先进技术时，面临着多么大的挑战。
观察者网专栏作者余鹏鲲曾提到，西方国家限制向中国出口光刻机，是我国境内半导体工艺制程始终比境外落后1-2代甚至3代的主要原因。
去年4月，武汉光电国家研究中心甘棕松团队，采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段。该样机实现了材料，软件和零部件等三个方面的国产化，打破了三维微纳光制造的国外技术垄断。