不过，华为表示，它将2021收入的22.4%用于研发，使过去十年的总类别支出超过1200亿美元。

部分研究是在半导体制造业。据中国知识产权局网站去年底披露，华为已在用于制造先进芯片的光刻技术的高度专业化领域申请了专利。

Triolo说：“这一点很重要，因为像EUV这样的复杂技术的每一项都不难取得进展，但将其转化为一个规模巨大的商业体系，以促进商业发展，是一项巨大而艰巨的任务。”

目前，总部位于荷兰的ASML是世界上唯一一家能够制造制造先进芯片所需的极紫外光刻机的公司。Triolo表示，ASML不仅花了大约30年的时间自行开发EUV，而且该公司还可以不受限制地接触数千家供应商和国际行业集团。

“华为有一批非常能干的工程师，”Triolo说。“建造商业上可行的东西可能需要五到七年的时间，前提是一切顺利，如果有大量资金。中国将不得不在这方面加大力度。”

其他中国公司也在向知识产权投入资源。IFI对公司及其子公司全球专利持有量的排名显示，一些中国巨头跻身前15名，其中包括国家研究机构中国科学院。IFI首席执行官Baycroft表示：“中国创新的崛起已经很长一段时间了。”

来源 | 知产力