韩媒：中国华为挑战半导体“梦想设备”EUV开发，“努力10年都不可能”！12月29日，韩国媒体《朝鲜日报》发表文章称，在中国政府的大力支持下构建半导体生态系统的华为，申请了尖端半导体工程中必须的极紫外线（EUV）技术专利。随着美国制裁的长期化，未能获得荷兰半导体设备公司ASML独家供应的EUV设备，因此，他们打算通过自主开发寻找突破口。但能否实现实际生产还是未知数。因为被誉为“人类制造的机器中最精密的设备”的EUV制造需要全球先进的零部件供应链。华为上月15日向中国知识产权局申请了一项与EUV光刻技术相关的专利（申请号202110524685X）。EUV光刻是在半导体工艺过程中，在晶圆上形成电路图案的曝光过程中使用极紫外波长光源的技术。上月底，华为在其网站上发布了一篇题为《华为入局——中国EUV光刻设备创新》的帖子。华为表示：“为了改善半导体芯片的开发，决定获得各项技术专利。申请专利的光刻系统由特殊反射镜、照明系统、各种镜头等多种要素组成。”华为认为，此次专利涉及光刻系统和反射镜等，由此可以解决用于EUV设备的光源光线不均匀的问题。据悉，专利尚未通过。不仅是华为，中国研究机构也齐心协力，积极参与EUV技术研发。中国清华大学研究院和中国科学院也在自主研发EUV相关技术。据悉，他们正在开发绕过美国技术，采用新方式的EUV技术。中国积极开发EUV技术是因为新一代半导体生产需要EUV曝光设备。全世界半导体制造商一致认为，为了7纳米（1纳米是十亿分之一米）以下的超微工程，EUV是必须的。EUV由荷兰ASML独家提供。如果不能及时得到EUV，就会在微细工程竞争中落后，因此各企业之间为抢先得到该产品而展开了激烈的争夺战。但中国从2019年开始因美国制裁而无法引进ASML的新型装备。外媒报道说：“现在不仅是采用7纳米以下工程的芯片，连华为开发的高性能芯片也无法生产。”梦想着半导体自立的中国，以通信设备世界第一、中国代表性企业华为为首，正在打造半导体生态系统。华为得到政府的大力支持，拥有各种半导体子公司。以自家智能手机芯片设计企业海思为开端，去年在华为总部所在地深圳成立了半导体后工程专门企业“华为精密制造有限公司”。另外，还在建设另一家子公司代工（半导体委托生产）企业“PXW”工厂和其他半导体制造工厂。很多人认为，即使得到政府的全面支援，也很难成功开发出EUV设备。仅研发就耗时10年以上的ASML EUV设备，使用了10万多个零部件，除了ASML自身技术外，还汇集了美国光源技术、德国光学技术、日本零部件等各国尖端技术。在实际生产装备之前，必须要有能够获得众多优质零部件供应的巨大全球供应网，而目前中国事实上已经不可能打通这条供应网。美国政府认为ASML的EUV中包含了美国技术，因此不允许荷兰向中国出口。随着来自美国的制裁将影响力扩大到全世界主要核心技术拥有国，中国的半导体自立计划面临困境。中国宣布了“中国制造2025”，并表示将在半导体产业投资1万亿元人民币，将半导体自给率提高到70%。但业界认为，到2025年自给率还不到30%。哈佛商学院教授 Willie Sheh 表示，“半导体自主供应链的目标对全世界任何国家来说都是完全不现实的。ASML技术是说明为什么需要进行全球交易的很好的例子。”韩国成均馆大学化学工学系教授权锡俊表示：“虽然要分析专利文件才能准确了解，但即使开发10年，也很难制造出质量获得市场认可的EUV光刻机。”