韩媒：尽管荷兰也参与限制，但“中国仍然可以量产7nm”！
3月25日，韩国媒体《今日财经》发表文章称，最近荷兰政府决定加入美国对华半导体出口限制，并公开了详细限制事项。很多人预测，继荷兰ASML的EUV（极紫外线）设备之后，浸没式DUV（深紫外线）设备对中国的出口也将受到限制。浸没式DUV设备是可以实现最尖端半导体领域7nm的设备。有分析认为，中国企业的最尖端半导体量产之路已经被堵死。

不过，也有观点认为，中国7nm工艺量产仍有可能。这是因为“部分”浸没式DUV设备并没有被纳入ASML通过声明直接公布的监管范围。专家们认为，美国和荷兰与其说是想完全切断中国最尖端半导体技术的开发，不如说是想从政治角度为谈判留有余地。

据业界透露，虽然最近荷兰表示将对半导体用DUV（深紫外线）设备进行对华出口限制，但中国实施7nm工艺的可能性并没有完全消失。

近日，荷兰外贸与发展合作部部长Liesje Schreinemacher向议会递交报告称：“为了国家安全，尽快控制最先进的DUV曝光设备对华出口是必要的。”此番言论意在加入最近日益加强的美国对华半导体出口限制，矛头直指位于荷兰的主要半导体设备企业ASML。ASML已经迫于美国的压力，于2019年开始限制最先进的曝光设备EUV对华销售。

ASML也立即发表了类似的声明。ASML表示：“我们没有收到政府提到的‘最先进’的确切定义的信息，但我们的理解是，ASML的‘TWINCSCAN NXT：2000i’及其后续型号（NXT：2050i）在监管范围之内。不过，专注于传统工艺的客户仍然可以顺利使用ASML的产品。”

业界关注的是ASML直接透露的DUV设备的“监管范围”。ASML的NXT：2000i和NXT：2050i对应的是浸没式DUV设备。利用浸没式可以实现线宽达38nm的单次图案化，这比一般DUV的线宽更小。

此外，如果使用浸没式DUV设备对电路进行双重图案化（通过两次曝光工艺），则可以实现真正应用EUV工艺的7nm工艺。事实上，台湾代工厂台积电在引入EUV工艺之前，也生产过不少采用DUV的7nm产品。去年中国中芯国际通过浸没式DUV设备生产7nmSoC的事实被曝光。

ASML目前在市场上分销的浸没式DUV设备分为三种：NXT：2000i、NXT：2050i、NXT：1980Di。根据ASML的解释，即使在荷兰出口限制生效后，NXT：1980Di也可以毫无问题地出口到中国。

韩国某半导体设备企业代表表示，“浸没式DUV设备只是版本不同，附加功能有所不同，但与线宽相关的分辨率都是一样的，所以在技术上中国还是有空间实现7nm的”，“尽管如此，美国和荷兰没有阻止所有这些设备，这肯定是有意图的。”