而在高端的EUV光刻机方面，我国目前距离阿斯麦先进水平相差了3代技术，也就是超过10年的差距。因此想要在三五年就达到人家水平，可以说比登天还难。

再者就是我们要追赶的，并不是光刻机的某一个技术难点，而是整个全产业链。

什么叫全产业链？举个通俗易懂的例子，比如烧个番茄炒蛋吧，我们通常认为只要准备番茄和鸡蛋就够了。

但是没有锅具，灶台怎么烧，总不是凭空变成来吧，哦， 对了，味道好不好吃，还要有相应的调料，所以诸如这些前期准备工作，是不是都要弄好才行。

在疫情期间，比亚迪能够在七天时间内设计出中国最快的口罩生产设备，靠的就是日常技术积累和各方面的配套，也就是全产业链的帮助，不然怎么可能做得到。

但在芯片产业链方面，我们还是落后很多。

据中国电子专用设备工业协会和国际半导体产业协会的数据统计，2021年中国半导体设备市场销售额为187.2亿美元，同比增长39.2%，但中国半导体设备国产化率仅为20.2%。

另外，国内的光刻机最需要的是在实际应用环境中发现问题，然后解决提高。

国内厂商的问题是能造出来，但不太好用，在有国际产品代替的情况下，大家都买进口的，不用国产的，这造成国产产品一直没有完善提高。