观察：中国等离子体刻蚀机性能一流 但只是造芯片的＂配角＂(2)

　　上述专家称赞说，尹博士以及中微的核心技术团队，基本都是从国际知名半导体设备大厂出来的，尹博士原来就在国外获得了诸多的技术成就。中微不断提高改进，逐步在芯片刻蚀机领域保持了与国外几乎同步的技术水平。

　　在IC业界工作多年的电子工程师张光华告诉科技日报记者：“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的报道。如果能在台积电应用，的确说明中微达到世界领先水平。但说中国芯片‘弯道超车’就是夸大其词了。”

　　“硅片从设计到制造到封测，流程复杂。刻蚀是制造环节的工序之一，还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等，都需要复杂的技术。中国在大部分工序上落后。”张光华说，“而且，中微只是给台积电这样的制造企业提供设备，产值比台积电差几个数量级。”

　　科技日报记者发现，2017年开始网络上经常热炒“5纳米刻蚀机”，而中微公司一再抗议媒体给他们“戴高帽”。

　　“不要老把产业的发展提高到政治高度，更不要让一些新闻人和媒体搞吸引眼球的不实报导。”尹志尧2018年表示，“对我和中微的夸大宣传搞得我们很被动……过一些时候，又改头换面登出来，实在让我们头痛。”（高 博）