国产光刻机有好消息传来！振奋人心！
新华社撰文《国产光刻机如何突围》，信息量很大，透露出上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。
讲真哦，中国攻克28纳米光刻机技术，已经不是什么新闻了。
28纳米搞定，具备里程碑式的意义。这意味着中国半导体有了自主的种子，不仅90%以上的芯片能够独立自主，而且具备了不断向先进制程升级的能力。
还是那句话，只要不是上帝造的东西，中国人都会造出来，只看需求，只需时间。加油！芯片人！
声明：该文观点仅代表作者本人，本信息平台不持有任何立场，欢迎在下方【顶/踩】按钮中亮出您的态度。