中国电科的研发人员正在调试国产离子注入机，目前已经出货了100台设备，累计流片量超过2000万片，实现了对28nm工艺制程的全覆盖。这台设备对于保障我国半导体产业的成熟制程领域非常重要。
如果没有这种设备，就需要在纯净硅中加入少量的杂质，而离子注入机就是执行这一工艺的关键设备。该设备可以从离子源中产生所需的离子，并精确控制半导体的掺杂量，从而制造出各种不同类型的半导体。离子注入机的开发难度仅次于光刻机，但对于芯片制造来说却是至关重要的。如今，我们再也不用担心被外国技术卡住脖子了。
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