看来又遥遥领先了！中国5nm芯片生产不需要光刻机，这下美西方要哭晕了！
9月15日，手机中国注意到，天眼查App显示，上海创消新技术发展有限公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。
简单来说，不需要EUV光刻机或DUV光刻机的光刻，就能直接蚀刻制造出5纳米芯片。
如果是真的，我们又一个颠覆性创举，就像搞电动汽车，我们直接开新游戏，不跟他们在原来的游戏里玩。
这是典型的弯道超车，相当于绕开了美西方历时多年费尽心机设置的壁垒，找到了一条直击要害的捷径。
但这个消息是真是假，还是让子弹飞一会！
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