让我们回到三年前，假如你面对这个局面，你要怎么解决没有芯片可用的问题？这个时候你去问蛙，蛙肯定说没有办法，你去问狗，狗只会说要不跪下来求人。但是咱们是人，有问题就要解决问题，我们现在就是要先解决问题，那么问题来了，从一无所有，到生产出芯片，还差些什么呢？
首先你得有光刻机。那光刻机怎么解决？你要是问蛙，蛙肯定说解决不了，问狗呢？狗说这个几十年也解决不了。他们就这么个脑子，你得问对人，其实很好解决，买啊，可以买现成的，先买过来就得了。
以下是公开消息（图一）：据海关总署数据，2015年-2022年，中国从荷兰进口光刻机总额145.08亿美元，进口总数690台。
有了光刻机，第二个问题来了，这些都是DUV光刻机，制程最高可能也就在14nm，甚至有可能是28nm，这相当于让公鸡下蛋，估计美国得到的评估结论也是这样的。那有没有可能改造一下光刻机的光源系统呢？
我猜测应该是有改造空间的，以下是公开消息（图二）：国家知识产权局公布了一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”的专利。从公布的内容来看，该项专利与EUV光刻机有关，可解决相干光无法匀光的问题。
如果光源问题解决了，制程能到14nm，双重曝光就是7nm，如果能达到DUV光刻机的极限，也就是10nm，双重曝光后就是5nm。所以关于9000s到底是7nm还是5nm制程，我猜问题的源头有可能在这里。
那就算能解决光源的问题，可还有第三个大问题，没有软件授权，那光刻机不还是不会下蛋的公鸡吗？对于蛙和狗来说，确实如此。但是这个问题是绕不过去的，那就只能迎难而上，去解决这个问题了。
以下是公开消息（图三），国内芯片设计EDA工具团队联合国内EDA企业，共同打造了14nm以上工艺所需EDA工具，基本实现了14nm以上EDA工具国产化。
从这三个公开消息看，我大胆猜测一下这蛋是怎么来的，就是借鸡生蛋，而且是借了只公鸡。通过改造，变成了一只会下蛋的公鸡。所以这个蛋不是那种意义上的百分百国产，但是肯定是做到了去美国化，所以也不必再担心被人卡了。
蛙和狗都没有想到，有一天公鸡还能下蛋，可是个中国人都知道，下蛋公鸡，那可是公鸡中的战斗机。
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