韩媒：中国因荷兰限制而囤积ASML设备，进口量增加8倍！
8月29日，韩国媒体《AI时报》发表文章称，中国ASML深紫外（DUV）光刻机进口量激增。在荷兰政府实施限制之前，中国开始囤积半导体设备。
今年1-7月，中国ASML DUV光刻设备的进口额同比增长64.8%，达到25.8亿美元。
数据显示，特别是中国在7月份从荷兰ASML进口了价值6.26亿美元的DUV光刻设备，是去年同月的近8倍。
自2019年荷兰政府禁止向中国出口ASML最先进的极紫外（EUV）光刻设备后，中国一直在购买旧版本的DUV光刻设备。
但此前允许出口的DUV光刻设备的新出口限制将从9月1日开始实施。也就是说，出口DUV光刻设备必须事先获得荷兰政府的许可。事实上，就连DUV光刻设备也已经无法进入中国。
业界认为，中国对DUV光刻设备的进口量增加是“最后一次抢购”。继EUV之后，面对DUV光刻设备出口限制，事前能拿到多少就拿到多少设备。在美国实施进一步制裁之前，中国的半导体设备抢购将持续下去。
陷入低迷的全球半导体设备市场因中国的这一举动而松了口气，但预计这只是暂时性的。一位相关人士表示：“中国的设备采购行动不会持续很长时间。如果美国出台更多法规，进入中国市场将不可避免地遇到障碍。”
另外，得益于美国对半导体设备出口的限制，中国有望在今年年底自主生产28纳米DUV光刻设备。
上月底，中国媒体称，国有半导体企业上海微电子（SMEE）有望在年底前交付自主研发的28纳米光刻设备。
有专家认为，如果这是事实，则为中国半导体的崛起找到了突破口。
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