ASML在声明中强调，新出口管制并不适用于所有的浸入式光刻工具，而只适用于所谓“最先进的”，并且这些管控措施转化为立法并生效还需要时间。
虽然ASML尚未收到任何关于“最先进”确切定义的更多细节，但该公司将其解释为“关键的浸没式系统”（critical immersion），即“资本市场日”中定义的TWINSCAN NXT:2000i和后续推出的浸没式系统。
这或许意味着，TWINSCAN NXT:1980Di等更成熟的浸没式DUV机型不在受限范围。
ASML主流浸没式DUV设备 官网截图
观察者网查询方正证券2020年6月发布的研报发现，TWINSCAN NXT:2000i DUV（双工作台深紫外光刻机）曾是ASML最先进的浸没式光刻系统，也是EUV光刻机之前的重要过渡产品，同时是后期7nm/5nm产能的重要补充。这种机型在2018年就已开始出货，被视为可用于生产7nm等制程。
在复旦大学微电子学院2022年5月发表的一篇论文中，作者提到，在没有获得极紫外光刻机（EUV）的情况下，芯片代工厂都是利用浸没式DUV光刻机，多次曝光实现7nm逻辑芯片的光刻工艺流程。
ASML光刻机型号（资料图）
ASML官网显示，TWINSCAN NXT:2000i专为与EUV混合使用而设计，可为高级逻辑和DRAM节点的大批量制造提供出色的覆盖、聚焦控制和交叉匹配。比这款光刻机更先进的型号是TWINSCAN NXT:2050i，该系统满足多种图案化要求，为在高级逻辑和DRAM节点制造300毫米晶圆提供经济高效的解决方案。
在前述声明中，这家荷兰光刻机巨头提到，主要关注成熟制程的客户，可以使用不太先进的浸没式光刻工具，因此最新的出口管制并未影响该公司2023年的财务前景。
但不能自由出货，ASML在华收入不可避免受干扰。该公司预计2023年中国大陆销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币162亿元），而全球总销售额将增长25%，因为主要客户台积电和英特尔都在扩产。
根据ASML财报，2022年该公司共出货345台光刻系统，其中有81台浸没式DUV光刻机（ArFi），占比为23%。所有产品中，42%销往中国台湾，29%销往韩国，14%销往中国大陆，销往美国的只有7%。