价值1.2亿美元的EUV光刻机，到底有多难制造？
作为集成电路产业的核心装备，光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”。
当前全球能制造高端EUV光刻机的只有荷兰的ASML，制造中低端光刻机则是日本的尼康和佳能，它们市场份额超过八成。
一台先进制程的EUV光刻机，重达180吨，零部件高达10万多个，超过2公里以上的软管，需要40个集装箱来运输，仅安装调试就需要一年左右。
它的研制到底难在哪？
光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。
因此，它是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，也是目前最复杂，制作难度最高的精密设备。
比如作为光刻机核心部件的反射镜，其工艺极其苛刻，瑕疵更是可以是用皮米来计算。
可能大家不知道，1皮米相当于1米的一万亿分之一。
这是什么概念？举个形象例子，如果把凸透镜放大到德国那么大的面积，那么整个镜面的误差不能超过1厘米，可见难度之高。
纵使ASML也不能独自完成，于是便网罗天下精英，采用全球最顶尖的技术。
比如采用德国的机械工艺、德国顶级的蔡司镜头、美国的光源和计量设备等，可以说EUV光刻机是“集人类智慧大成的产物”。
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