继新能源汽车换道超车之后，我们的光刻机也要换道超车了？
近期，清华绕过荷兰阿斯麦的技术路线，创新出了一种新型EUV光刻机的光源方案，叫做SSMB-EUV光源方案。这个方案，有望让我们中国换道超车，制造出自己的EUV光刻机。是的，你没听错，我们直接可以上马EUV光刻机的制造了，而不必等到DUV光刻机的技术，赶上西方后，才着手。
于清华SSMB-EUV光源方案和荷兰阿斯麦的区别，详细讲起来比较费解，你可以简单理解为：荷兰阿斯麦的EUV光源是一把高精度的枪，扣动扳机，可以打到1000米外的一只蚂蚁；而清华SSMB-EUV光源，则是把枪的枪管直接设计为1000米长，枪口顶到了蚂蚁的脑袋，这个枪，不需要那么高精度，就可以打到蚂蚁。
也就是说，荷兰阿斯麦的EUV光刻机，由于需要出口到全球各地，所以在尺寸上要尽量小，方便运输和拆卸；在这种情况下，光刻机的精度就要尽可能的高。犹如一把高精度的短枪，方便随带随走，但也可以一枪命中1000米外的蚂蚁。
而使用清华SSMB-EUV光源方案的光刻机，则不考虑出口的事情，可以在尺寸上尽可能的大，对精度的要求也没那么高，更容易建成。虽然说，使用清华SSMB-EUV光源方案的光刻机，可能占地面积大、耗费电力和成本都比较高，但总算解决了从无到有的问题，意义重大。
解决了EUV光刻机这个国产芯片产业链中最短的短板，我们就再也不怕美国联合西方限制我们了，不但7-28纳米它限制不了，就连3-5纳米，我们也有可能造出来了。
与此同时，采取另一个创新方案的国产EUV工程样机，在长春光机所，也已经造出来了。
中国正在多个方向，突破最尖端的光刻机-EUV光刻机，美国所谓的半导体封锁，可能在未来3-5年，就名存实亡了。正如荷兰阿斯麦CEO所说：孤立中国没有希望，因为14亿人很聪明，他们会想出我们想不出的办法。没想到这位荷兰CEO一语成谶，他感慨没多久，我们绕过西方技术路线的清华SSMB-EUV光源方案就出来了。
化用钱学森先生的一句话：光刻机是不是人搞出来的？外国人能搞的,难道中国人不能搞? 中国人比他们矮一截?
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