EUV光刻光源核心部件新进展
中国科学院上海光学精密机械研究所团队研制的锡液滴发生器实验装置，在100 kHz频率下喷射的锡液滴直径~40 μm，间距~230 μm，工作时长接近5h。锡液滴在10 s短时间内，竖直和水平方向的位置不稳定性分别为2 μm和1 μm左右。
上述指标与ASML仍有较大差距，未来在锡液滴的可用性性能，如液滴直径、工作时长和长时间的位置稳定性还需进一步提升。
按照长光集智的工厂建设规划，2027年完成厂房建设工作。2028年开始交付国产六镜式极紫外光刻机反射镜、国产大功率LPP-EUV光源、国产真空磁悬浮双工件台等的小批量生产产品并完成国产极紫外光刻机的验证机总装与FAB测试，完成32-22纳米制程曝光稳定性测试然后再迁入SMIC等主流晶圆厂进行磨合，大概需要个2-3年能摸到5纳米。
据说国产EUV光刻机配套的50Khz，30千瓦二氧化碳激光器(LPP-EUV光源的驱动激光器)、IF点达到250瓦以上的EUV光源、离轴反射式六镜极紫外投影光学系统、真空环境下的超高精度磁悬浮双工件台、分辨率达到一个氢原子直径的超精密量测系统都还处于在研或者预研阶段。
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