韩媒：中国自主半导体设备研发进展顺利，美国自尊心将受挫！
10月18日，韩国媒体《商业邮报》发表文章称，中国半导体设备企业计划今年内开始出货28纳米制程半导体生产所需的光刻设备。这是为了摆脱对ASML等海外企业的依赖而采取的战略。
随着美国、荷兰、日本等国半导体设备出口限制的正式实施，致力于构建自给自足体制的中国的努力有可能比预想的更早取得成果。
据IT专业杂志Tom's Hardware报道，中国芯片代工企业中芯国际最快将在今年内获得上海微电子的28纳米半导体光刻设备。
上海微电子是一家中国半导体设备企业。专业开发和生产用于半导体上刻画电路工艺的光刻设备。
目前上海微电子提供的最先进技术的光刻设备仅能达到生产90纳米半导体的水平。将用于28纳米工程的设备商用化是一项卓越的成果。
28纳米工艺主要制造用于电动汽车的功率半导体、图像传感器等，在台积电等主要代工企业的业绩中也占很大比重。
上海微电子之所以加快28纳米级光刻设备的研发速度，与美国、荷兰、日本加强同盟关系，加强对华半导体设备出口限制的情况有很大关系。
美国从特朗普政府时期开始就禁止半导体光刻设备排名第一的荷兰ASML向中国出口生产尖端半导体所需的设备。
最近，这种限制进一步加强，导致贸易制裁不断升级，使中国实际上无法完全购买海外企业生产的先进光刻设备。
中国为应对美国的举动，将此前集中对半导体制造企业的政府支援，提供给上海微电子等半导体设备企业的研究开发及生产投资。
上海微电子的28纳米光刻设备自主研发和商用可以用成果来证明中国的这种努力，因此具有重大意义。
中芯国际最近开始大量生产华为智能手机上的7纳米先进半导体，为中国赢得了“首胜”。因为这意味着美国对中国的限制并没有有效阻止中国的技术发展。
在半导体设备领域，如果上海微电子年内28纳米制程光刻设备出货成功，美国政府将会有危机感，自尊心势必受到极大伤害。
上海微电子年内开始生产28纳米光刻设备的预测从8月初开始出现。但对于实际商业化的可能性，有人表示出怀疑。
如果考虑到中国的技术局限和研发所需的时间，上海微电子一下子将技术能力从90纳米提升到28纳米水平的任务似乎不太现实。
但Tom's Hardware报道称，“上海微电子公开28纳米设备的计划看来进展顺利”，中芯国际可能会采用它。
中芯国际通过7纳米半导体的批量生产证明了技术开发和生产投资的成果，预计将以内需市场为中心，快速扩大代工订单，继续保持增长势头。
如果上海微电子作为设备供应商正式开始与中芯国际形成协同效应，那么它很有可能为中国制定的构建半导体自给体制的目标做出重要贡献。
不过Tom's Hardware也持谨慎态度，表示要看上海微电子能否以足够的水平供应28纳米设备。
中芯国际等企业用中国产品代替从ASML和佳能、尼康等公司购买的设备的时间还是未知数。
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