俄媒：中国半导体芯片制造可能只落后美国15年！
俄网友说：中国人干得好！...
再过三五年，他们就会像要求分享月球土壤一样分享中国的优质产品……
9月18日俄新社专栏作家刊文。
鉴于最近荷兰政府制裁要求阿斯麦公司 获得销售旧式深紫外 (DUV) 光刻机的许可证，据报道中国已开发出自己的 DUV 扫描仪。中国工业和信息化部发布的文件中对此进行了阐述。
对于中国来说，确保芯片制造设备的安全变得越来越重要，因为 ASML 仍然是全球唯一一家提供最先进半导体制造工具的制造商。国产深紫外扫描仪的出现可能会减少中国对西方技术的依赖，特别是在先进的人工智能应用需要先进的半导体来实现最大性能的时代。
中国部委文件揭示了新型 DUV 光刻机的三个主要技术方面：分辨率、波长和叠加精度。该机器采用氟化氩技术运行，该技术二十多年来一直是全球半导体行业的主要技术。
相比之下，至少从 2009 年起，同类阿斯麦公司系统就已经提供了这种级别的分辨率。
阿斯麦公司与新型中国扫描仪最具可比性的硬件是TWINSCAN XT:1460K，它也使用193nm ArF光源并实现亚65nm分辨率。
俄专家认为，尽管有相似之处，荷兰设备在技术上仍然更加先进。
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