中国光刻机突破，ASML公司急了！ASML CEO温宁克公开表示：“在技术方面，特别是在光刻机方面孤立中国毫无意义，中国有14亿人，而且聪明人很多，他们能想到我们没想到的解决方案。我们是在迫使他们提升创新能力，于是他们做事更努力、更专注、更快。而我们太自以为是了！”
EUV（极紫外光刻）技术是一种先进的半导体制造工艺，具有更高的分辨率和更低的功耗。通过使用EUV光刻机，可以实现更精细、更复杂的集成电路制造，为各种高科技产品提供更强大的计算能力和更高效的能源利用。
EUV光刻机共有三大核心技术，分别为EUV光源系统，高精度弧形反射镜系统、超高精度真空双工件台。此前，EUV光源系统技术来源于美国企业Cymer，2012年被ASML收购；高精度弧形反射镜系统来源于德国光学巨头蔡司公司；超高精度真空双工件台，该技术来自德国TRUMPF公司。
目前我国已经全部攻破了这三大核心技术，其中我国鼎鼎有名的哈工大干掉了其中2个。所以，哈工大真不愧是国防七子之一，关键时候真靠得住！
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