我国光刻机技术的突破并不简单，EUV光刻机共有三大核心技术，分别为EUV光源系统，高精度弧形反射镜系统、超高精度真空双工件台。
而目前美国及西方盟友在半导体核心设备方面，主要是在光刻机方面对我们进行封锁！目前这三个技术，我国均已经突破，其中最核心的两个技术是在哈工大实现突破，并应用于中国科学院长春光机所EUV的曝光系统。
EUV光刻机技术已经获得了吉林省科技进步一等奖的殊荣，宣告在光刻机方面美国对我们的封锁已经失败，不然ASML也不会直接未经美国同意，就宣布继续对我们提供EUV光刻机。甚至ASML的CEO直接对媒体表态：“西方对中国在光刻机方面的技术封锁和产品管控毫无意义，中国人太聪明了，总能想到办法来解决，西方这样做的唯一结果就是推动中国科技的快速发展进步！”
声明：该文观点仅代表作者本人，本信息平台不持有任何立场，欢迎在下方【顶/踩】按钮中亮出您的态度。